IE733 – Prof. Jacobus a 6 Aula Cap. 2 A Estrutura MOS de Dois Terminais. 2.1 Introdução •MOSFET = dispositivo predominante da microeletrônica moderna •MOS = Metal – Óxido (SiO2) – Semicondutor (Si) •MIS = Metal – Isolante – Semicondutor •MOS de 2 terminais = Capacitor MOS = coração do transistor MOS. Diodo controlado por porta, ou Estrutura MOS de 3 Terminais Transistor MOS, ou MOSFET, ou Estrutura MOS de 4 Terminais 2.2 Tensão de Banda Plana • a) Caso acadêmico: materiais de porta e conexão igual ao substrato Q = 0. • b) Caso real: M , S M S – (circuito externo ou interno) – Q0 • c) Aplicando fonte externa = MS = -M,S Q = 0, onde portanto: MS S M Exemplos: • a) Porta de Al: MS = - F – 0.6 V • b) Porta de Si-poli n+: MS = - F – 0.56 V • c) Porta de Si-poli p+: MS = - F + 0.56 V FP NA t ln ni FN ND t ln ni Cargas no Sistema SiO2/Si: • Define-se Qo, como uma carga efetiva na interface, com o mesmo efeito das cargas distribuídas. • Qo = 1010 a 1011 cargas/cm2 (10-9 a 10-8 C/cm2). •Qo induz cargas no metal e no semicondutor; Podemos neutralizar a carga no semicondutor pela aplicação de tensão = -Qo’/Cox’ Aplicando uma tensão de porta tal que a carga no semicondutor seja nula, teremos: Q Q ' M ox ' o Q C C ' ox ' o ' ox ox tox ox kox 0 (kox=3.9) Combinando MS e Qo: VFB MS Qo' ' Cox Exemplo: • Calcule VFB para substrato tipo p, NA=9x1016cm-3, isolante de SiO2, tox=10nm, porta de Si-poli tipo n+. A carga efetiva de interface é de 10-8 C/cm2. Nota: 16 9 x10 F 0.0259ln 0.41V 10 1.18x10 MS 0.41 0.56 0.97V Q0 108 C.cm2 10 2 6 . 25 x 10 cm q 1.6 x1019 C 14 3 . 9 x 8 . 854 x 10 F / cm ' 7 2 Cox 3 . 453 x 10 F / cm 7 10x10 cm ' 8 2 Qo 10 C / cm ' 0.03V 7 2 Cox 3.453x10 F / cm VFB 0.97 0.03 1.00V Aplicando tensão de porta = VFB: Nota: QC = carga combinada = QI + QB S 0 Q 0 ' C 2.3 Balanço de Potencial e de Carga VGB ox S MS M = material de porta, mesmo se contato nas costas VGB ox S MS Como MS = cte. VGB ox S Por neutralidade de cargas: QG Qo QC 0 Q Q Q 0 ' G ' o ' C Q Q 0 ' G ' C (pois Qo’ = cte.) Para desenhar diagramas J n n nEFN 0 EFN cte de bandas, EF = cte., pois: J p p pEFP 0 EFP cte EFN EFP EF equilíbrio! 2.4 Efeito de VGB sobre a Condição de Superfície (consideramos substrato p): 2.4.1 Condição de Banda Plana: VGB VFB Q 0 ' C S 0 2.4.2 Condição de Acumulação: VGB VFB Q 0 ' C S 0 p ni e ( Ei EF ) p( y ) N Ae kT ( y ) t onde: 1 ( y ) Ei ( y ) Ei () q 2.4.3 Condição de Depleção e Inversão: Inicialmente, forma-se depleção: VGB VFB Para y < dB (y) -qNA ' QC 0 Caso particular de VGB = VL0 : S 0 n ni e ( E F Ei ) n0 ni e F s ns n0 e ns ni e kT Para s = 2F ns = NA Corresponde a VGB = VM0 t t ( s F ) n s p0 e t ( s 2 F ) ns N A e Para s = F ns = ps = ni Corresponde a VGB = VL0 t ( s 2 F ) t 2.4.4 Análise Geral (relação de s e Qc’ com VGB): ( y) n( y ) n0 e p ( y ) p0 e t ( y ) t ( y ) q[ p( y ) n( y ) N A ] ( y) d 2 q ( y ) t t p0 e n0 e NA 2 dy s d ( y) dy S s .d S .dV Qc' s ( y 0) V Temos = f() e não = f(y) fica difícil integrar a equação de Poisson em y ! A solução é alterar a variável de integração de y p/ : ( ) y y y y s y y y y ( ) S ( ) S S 0 P/ y = = 0, =0 P/ y=0 = S = S S ( ) 0 2 S 2 S Q 2 q s N A t e ' c s t s t e 2 F t s (t e t s t ) .d S s S ox V .dV Q ox ox ' G ox tox Q C ox ' G ' ox Temos agora 4 equações gerais (ver abaixo) e 4 variáveis (ox, s, Qc’, QG’), que podem ser resolvidos numericamente, para cada valor de VGB, dados os parâmetros: MS, Qo’, NA, tox. VGB ox S MS (I) Q Q Q 0 (II) ' G ' o ' C Qc' 2q s N A t e Q C ox ' G ' ox s t s t e (III) 2 F t s (t e t s t ) (IV) É geral, porém muito complexo. Acumulação e depleção são importantes apenas no cálculo de alguns efeitos parasitários, no corte. Inversão é fundamental para modelagem de corrente. Aproximações serão usadas, em inversão, para simplific