O
O
O
O
Si
Si
Si
Si
Si
Si
Si
Si
Si
Si
Si
Si
NÍVEL DE INTEGRAÇÃO
NÍVEL DE INTEGRAÇÃO
DISPOSITIVOS/CHIP
SSI
2 a 50
MSI
150 a 5.000
LSI
5.000 a 100.000
VLSI
100.000 a 10.000.000
ULSI
10.000.000 a 1.000.000.000
SLSI
acima de 1.000.000.000
ALGUNS PROBLEMAS COM
CONTAMINAÇÃO
DEGRADAÇÃO DO DESEMPENHO
- QUALIDADE DO ÓXIDO DE PORTA
- TEMPO DE VIDA DOS PORTADORES DE CARGA
“METAL” PORTA
Contaminantes atuam como armadilhas
ou cargas no óxido
ÓXIDO DE PORTA
FONTE
DRENO
Contaminantes
atuam
como
armadilhas, degradando tempo de
TRANSISTOR MOS
vida e mobilidade no canal
DEGRADAÇÃO DA CONFIABILIDADE
- RUPTURA DO ÓXIDO DE CAMPO
- CONTATO RUIM
“METAL” PORTA
ÓXIDO DE PORTA
FONTE
DRENO
Contaminantes atuam como “pontos
fracos”, degradando a rigidez
dielétrica do óxido de porta
DEGRADAÇÃO DO RENDIMENTO
- UM ÚNICO DEFEITO PODE ARRUINAR TODO
UM CIRCUITO
Defeito fatal no
circuito
- PARTÍCULAS
C) JATO DE NITROGÊNIO
 MAIS ADEQUADO
 MAIS DIFÍCIL
 PODE CONTAMINAR COM METAIS DA PINÇA
MELHOR LIMPEZA?
DEPENDE DA SUPERFÍCIE DA AMOSTRA
Fonte:FiberSystems International Vol.3 N.1 pg.29 February 2002
Base Mundial de Computadores
Milhões de Usuários
1500
1400
1300
1200
1100
1000
900
800
700
600
500
400
300
200
100
0
80
81
82
8 bits
Uso pessoal
APPLE
83
84
85
86
87
88
89
90
8/16
bits
16 bits
16bits
PC
PC XT
PC AT
91
92
32 bits
386
PS
93
94
95
32 bits
486
Power
PC 601
96
97
98
99 2000 .....................2005
64 bits
686
MIPS 10000
Alpha Pentium-pro
Power PC620
128 bits
Micros a serem
desenvolvidos
....................2010
Micros multinúcleos
de 64 a
256 bits
Capacidade de Integração em Microeletrônica e Relógios
1E+13
Número de
Componentes
1 Terabit RAM
1E+12
P 500MHz 50M.
16G RAM
1E+11
4G RAM
1E+10
Proc. with 25M comp.
400 MHZ clock
1G RAM
1E+09
2000 MHz clock
64M RAM
1E+08
16M RAM
1E+07
1E+06
50 MHz clock
1M RAM
Proc. 32 bits – 10MHz
64K RAM
1E+05
1E+04
1E+03
P 625MHz
100M com
64G RAM
Proc. – 1MHz clock
16K RAM
1sr calculator , 1st Proc.
1Kbit
MSI – 100K Hz clock
1E+02
1E+01
1E+0
0 1960
1965
1970
1975
1980
1985
1990
1995
2000
2005
2010
2015
2020
Ano
Redução de dimensões e tamanhos das
pastilhas de silício
0.35m
as
Dimensões mínimas adotadas na pastilha
para os dispositivos eletrônicos
0.035m
Figura 3. Projeção a longo prazo da tendência de redução das dimensões dos dispositivos eletrônicos, contidos numa
pastilha de silício associada com a tendência de aumento de área física dessas pastilhas para os próximos 70 anos
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Aula 1 – DSPTI I