A PULVERIZAÇÃO CATÓDICA COMO TÉCNICA DE PRODUÇÃO DE
REVESTIMENTOS DE NITRETO DE SILÍCIO
Ana Nossa Oliveira
Dissertação de mestrado, Faculdade de Ciências e Tecnologia da Universidade de
Coimbra, 1995.
RESUMO
O presente trabalho teve como objectivo a produção e a caracterização de filmes
finos de nitreto de silício (Si3N4). Estes filmes foram depositados, sobre substratos
de aço rápido, por pulverização catódica rádio-frequência, magnetrão, processo não
reactivo, tendo sido estudados os seguintes parâmetros: a pressão de deposição e a
polarização do substrato. A caracterização química e física, pós-deposição dos
filmes de nitreto de silício incidiu essencialmente na avaliação da espessura,
estrutura, morfologia, composição química, dureza e adesão. Dos resultados obtidos
na sua caracterização, verificou-se que os revestimentos de substrato polarizado
apresentavam durezas bastante elevadas e uma fraca adesão ao substrato. Assim, o
desenvolvimento deste trabalho conduziu ao estudo de uma possível melhoria de
adesão dos filmes finos de nitreto de silício ao respectivo substrato. Com este
objectivo, foram aplicados dois métodos distintos de forma a tentar incrementar a
adesão entre o filme e o substrato. O primeiro método consistiu na codeposição de
titânio durante a deposição do Si3N4 e o segundo método utilizado, baseou-se na
deposição de uma camada intermédia de titânio, silício ou tungsténio entre o
substrato e o filme de nitreto de silício.